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光學玻璃清洗劑發表時間:2023-11-01 15:42 目前,通常光學玻璃鍍膜工藝大體為:玻璃毛坯→切削→研磨→清洗→求芯→有機溶劑清洗或半水基清洗劑清洗(有些工藝中,先經有機溶劑清洗后,再經半水基清洗劑清洗)→市水漂洗→水基清洗劑清洗→純水漂洗→異丙醇脫水→異丙醇干燥→鍍膜。光學玻璃經加工成型后鍍膜前,需對加工成型過程中產生的切削液、求芯油、保護漆、磨料、有機溶劑、灰塵及污垢腐敗后形成的色斑等污染物進行去除,這些污染物經有機溶劑、半水基清洗劑等清洗后,大部分污染物已被清除,但還殘留微量污染物,無法滿足光學玻璃鍍膜前的潔凈度要求。本發明所涉及的玻璃清洗劑即為上述工藝中所提及的水基清洗劑,用于光學玻璃鍍膜前的清洗。 上一篇光學玻璃清洗劑的解析
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